长鑫存储产能逼近美光:中国有望在 2026 年成为全球第二大 DRAM 生产国

硬件3个月前发布 小马良
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全球 DRAM 市场的格局正在发生剧烈震荡。

根据 Citrini Research的最新预测,中国最大的 DRAM 制造商 长鑫存储(CXMT) 有望在 2026 年 将其月产能提升至 35 万片晶圆,仅比美国巨头 美光(Micron) 少 2.5 万片。如果这一预测成真,中国成为仅次于韩国和三星/海力士集团的 世界第二大 DRAM 生产基地。

长鑫存储产能逼近美光:中国有望在 2026 年成为全球第二大 DRAM 生产国

核心预测:产能爆发式增长

1. 2026 年:逼近美光

  • CXMT 产能:预计达到 35 万片/月(WSPM)。
  • 美光产能:预计为 37.5 万片/月。
  • 意义:这意味着中国在成熟制程 DRAM 领域将拥有与美国巨头相当的规模效应。

2. 多厂协同:集群效应显现

除了长鑫存储,其他中国厂商也在快速布局:

  • Swaysure(新凯盛):深圳工厂已建成,产能 14 万片/月。
  • JHICC(晋华集成):晋江园区一期 6 万片/月预计 2026 年底投产,最终目标 12 万片/月。
  • YMTC/XMC(长江存储/武汉新芯):预计贡献 5 万 – 20 万片/月产能。
  • 总产能:到 2026 年,中国 DRAM 总产能预计达 60 万片/月;到 2030 年,有望飙升至 141 万片/月,其中仅 CXMT 就占 95 万片/月。

关键瓶颈:光刻机的“生死线”

产能扩张的最大变量在于 浸没式 DUV 光刻机 的获取。

  • 外部限制:若美国拟议的 MATCH 法案 生效,禁止向中国出售先进浸没式 DUV 工具(如 ASML NXT:2000i 系列),CXMT 的扩张将受阻。
  • 国产替代预期:
    • SMEE(上海微电子):预计 2026 年底或 2027 年初量产其浸没式 DUV 扫描仪。
    • SiCarrier/Yuliangsheng:预计 2028 年推出生产就绪平台。
  • 乐观与谨慎:Citrini 认为,即使受限,国产设备将在 2028 年后解除瓶颈。但业界普遍持谨慎态度,认为国产光刻机从交付到良率爬坡需要数年时间,真正大规模贡献产能可能要等到 2030 年代初。

市场背景:AI 驱动的内存饥渴

为何此时扩产?因为全球内存严重短缺。

  • 需求激增:到 2030 年,全球 DRAM 需求预计达 157.5 EB/年。
    • AI CPU/Agent:75 EB
    • AI 加速器 (HBM4E/5):37.5 EB
    • 传统云/客户端:45 EB
  • 供应缺口:预计 2030 年全球产能仅能满足 128.8 EB,留下 28.7 EB 的巨大缺口。
  • 中国角色:虽然中国产能大部分将用于满足国内庞大的消费电子和 AI 基础设施需求,但其溢出效应有助于抑制全球内存价格的过度上涨,对价格敏感的市场而言是一剂良药。

战略意义:从追随者到主要玩家

中国 DRAM 产业的崛起,不仅是商业行为,更是国家战略的一部分:

  • 技术共享:政府推动 CXMT 与 JHICC、Swaysure 等共享技术,加速整体水平提升。
  • 自给自足:减少对外部供应链的依赖,确保在极端地缘政治环境下的数字基础设施安全。
  • 定价权:随着产能占比提升,中国厂商将在全球 DRAM 定价体系中拥有更多话语权。
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